logo
Harga bagus  On line

detail produk

Rumah > Produk >
Lini Produksi Anodisasi
>
Garis Anodizing Asam Sulfurik Komponen Bersih untuk Substrat Aluminium Berkualitas Tinggi

Garis Anodizing Asam Sulfurik Komponen Bersih untuk Substrat Aluminium Berkualitas Tinggi

Nama merek: MEL-AL
Nomor Model: MEL-AL-1018
MOQ: 1set
Harga: Customized Price
Detail Kemasan: Kemasan standar
Ketentuan Pembayaran: L/C,T/T
Informasi Detail
Tempat asal:
Foshan, Tiongkok
Kekuatan Kontrol:
AC220V 50Hz
Menyoroti:

Jalur anodisasi asam sulfat kelas semikonduktor

,

Jalur anodisasi substrat aluminium kemurnian tinggi

,

Garis produksi anodisasi komponen bersih

Deskripsi Produk
Jalur Anodisasi Sulfat Bersih Tingkat Semikonduktor untuk Substrat Aluminium Kemurnian Tinggi
Gambaran Umum

Jalur anodisasi sulfat tipe bersih otomatis penuh ini direkayasa secara eksklusif untuk komponen semikonduktor aluminium kemurnian tinggi. Jalur ini menghasilkan film oksida bening alami seragam 8-15 μm tanpa kontaminasi pewarnaan garam logam. Jalur ini mendukung penyegelan air panas atau penyegelan bebas nikel suhu sedang untuk memenuhi persyaratan kebersihan dan pelepasan gas semikonduktor yang ketat.

Spesifikasi Teknis
Item Parameter
Benda Kerja yang Berlaku Komponen bersih semikonduktor, substrat aluminium kemurnian tinggi
Jenis Anodisasi Anodisasi dekoratif sulfat kontaminasi rendah
Ketebalan Film Oksida 8-15 μm
Tampilan Permukaan Lapisan bening alami (tanpa pewarnaan garam logam, risiko kontaminasi ion nol)
Pilihan Penyegelan Penyegelan air panas / Penyegelan bebas nikel suhu sedang
Mode Operasi Jalur anodisasi bersih otomatis penuh
Kontrol Kebersihan Formulasi bak ion rendah, sistem sirkulasi & filtrasi bersih khusus
Pembatasan Utama Proses pewarnaan dilarang untuk menghindari kontaminasi logam berat
Alur Proses
  1. Penghilangan minyak (penghilangan minyak bersih surfaktan rendah)
  2. Pencucian air murni bertahap
  3. Perlakuan desmut ringan
  4. Anodisasi sulfat kemurnian tinggi
  5. Pencucian kaskade air ultra-murni berkelanjutan
  6. Penyegelan: Penyegelan air panas / Penyegelan bebas nikel suhu sedang
  7. Pencucian air murni akhir
  8. Pengeringan suhu rendah terkontrol
Keunggulan Inti
  • Mode operasi otomatis penuh memastikan ketebalan film yang konsisten dalam 8-15 μm di seluruh batch
  • Pewarnaan garam logam dihilangkan untuk mencegah polusi ionik yang memengaruhi kinerja semikonduktor
  • Mendukung solusi penyegelan bebas nikel, mematuhi standar lingkungan dan pelepasan gas industri semikonduktor
  • Dilengkapi dengan filtrasi berkelanjutan presisi tinggi & pasokan air ultra-murni untuk menjaga kebersihan bak
  • Kaskade pencucian yang dikontrol secara ketat meminimalkan sisa asam dan terbawanya partikel asing
Peralatan Pendukung
  • Kelompok tangki pra-perlakuan
  • Tangki anodisasi sulfat kemurnian tinggi
  • Sistem pencucian UPW bertahap
  • Tangki penyegelan (penyegelan air panas / suhu sedang bebas nikel)
  • Penyearah anodisasi DC
  • Sistem filter sirkulasi presisi tinggi
  • Oven pengering suhu rendah bersih
  • Unit pengolahan gas buang & air limbah
  • Derek gantry otomatis PLC & sistem kontrol pusat
Pertanyaan yang Sering Diajukan
Q1: Mengapa pewarnaan garam logam dilarang untuk komponen aluminium semikonduktor?

Ion logam dari pewarna dapat tertinggal di dalam film oksida, menyebabkan migrasi ion, kontaminasi, dan risiko keandalan untuk rakitan semikonduktor. Anodisasi bening alami diadopsi.

Q2: Apa perbedaan antara penyegelan bebas nikel dan penyegelan konvensional yang mengandung nikel?

Penyegelan bebas nikel suhu sedang menghindari residu ion nikel. Ini memenuhi persyaratan semikonduktor untuk pelepasan gas rendah dan permukaan bebas logam berat.

Q3: Apakah jalur ini tersedia untuk produksi percobaan batch kecil?

Konfigurasi utama adalah otomatis penuh untuk produksi massal; modul bersih semi-otomatis / manual dapat disediakan sebagai peningkatan opsional untuk pesanan sampel.

Hubungi kami untuk desain tata letak dan kutipan yang disesuaikan.